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标题
Real-time monitoring of plasma synthesis of functional materials by high power impulse magnetron sputtering and other PVD processes: towards a physics-constrained digital twin
高功率脉冲磁控溅射和其他PVD工艺等离子体合成功能材料的实时监测：走向物理约束的数字孪生
相关领域
高功率脉冲磁控溅射 溅射沉积 物理气相沉积 材料科学 溅射 腔磁控管 涂层 光电子学 薄膜 基质（水族馆） 等离子体 分析化学（期刊） 纳米技术 化学 物理 量子力学 海洋学 地质学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6463/aca25a
AI链接 iop.orgdoi.org
DOI
10.1088/1361-6463/aca25a doi
其它 期刊：Journal of Physics D Applied Physics
作者：Arutiun P. Ehiasarian; Arunprabhu Arunachalam Sugumaran; P.Eh. Hovsepian; Catherine Davies; Peter Hatto
出版日期：2022-11-14
求助人
lhhh 在 2025-12-26 21:33:51 发布自河南，悬赏 10 积分
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