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Chemical Etching of GaN in KOH Solution: Role of Surface Polarity and Prior Photoetching GaN在KOH溶液中的化学蚀刻:表面极性和预先光刻的作用
相关领域
蚀刻(微加工)
各向同性腐蚀
X射线光电子能谱
材料科学
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制作
半导体
纳米技术
惰性
光电子学
化学工程
化学
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期刊:The Journal of Physical Chemistry C 作者:J.L. Weyher; Dennis H. van Dorp; Thierry Conard; G. Nowak; I. Levchenko; et al 出版日期:2022-01-05 |
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