| 标题 |
 Modular Synthesis of Phthalaldehyde Derivatives Enabling Access to Photoacid Generator-Bound Self-Immolative Polymer Resists with Next-Generation Photolithographic Properties 邻苯二甲醛衍生物的模块化合成，能够获得具有下一代光刻性能的光酸发生器结合的自焚聚合物抗蚀剂
相关领域
抵抗
化学
极紫外光刻
平版印刷术
极端紫外线
聚合物
纳米技术
光刻胶
光电子学
光学
有机化学
激光器
材料科学
物理
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of the American Chemical Society 作者：Jingyuan Deng; Sean Bailey; Shaoyi Jiang; Christopher K. Ober 出版日期：2022-10-08 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
无极微光
dde
Rainyin
AllRightReserved
张欢馨
HFH
科研狗
猪猪hero
蓝天
arniu2008
嘻嘻哈哈
殷勤的紫槐
OK
乐空思
Floy
eric888
栗子
贪玩的秋柔
GingerF
皖公网安备34019202002308
