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 Atomic layer deposition of AlN for thin membranes using trimethylaluminum and H2/N2 plasma 三甲基铝和H2/N2等离子体原子层沉积AlN薄膜
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期刊：Applied Surface Science 作者：Sebastian Goerke; Mario Ziegler; Andreas Ihring; Jan Dellith; Andreas Undisz; et al 出版日期：2015-02-25 |
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