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 Numerical and experimental investigation on iron contamination of 200 mm semiconductor-grade CZ-Si by bubble-free layer of quartz crucible 石英坩埚无气泡层对200 mm半导体级CZ-Si铁污染的数值和实验研究
相关领域
坩埚（大地测量学）
石英
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期刊：Vacuum 作者：Wang Sheng; Weinan Chen; Qipeng Zou; Runlong Shang; Xingmao Zhang; et al 出版日期：2024-09-24 |
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