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 Plasma-enhanced atomic layer deposition of carbon films employing a cyclic process of N2/H2 plasma and α, α’-dichloro-p-xylene as a precursor 相关领域
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期刊：Applied Surface Science 作者：Liugang Hu; Takayoshi Tsutsumi; Nobuyoshi Kobayashi; Kenji Ishikawa; Masaru Hori 出版日期：2024-10-10 |
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