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标题
Chemical Vapor Deposited Si:P Epitaxial Growth for DRAM Bit Contact
用于DRAM位接触的化学气相沉积Si：P外延生长
相关领域
德拉姆 外延 位（键） 化学气相沉积 材料科学 光电子学 计算机科学 纳米技术 图层（电子） 计算机网络
网址
https://doi.org/10.26434/chemrxiv-2025-dkw14
DOI
10.26434/chemrxiv-2025-dkw14 doi
其它 期刊：
作者：Protyush Sahu; Jay S. Brown; Silvia Borsari; Jeff Hull
出版日期：2025-01-16
求助人
AARON 在 2025-08-27 10:42:46 发布自广东，悬赏 10 积分
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  • 17小时前

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  • 17小时前

    AARON AARON Lv3 求助人 发起了本次求助

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