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β-Ga2O3 Vertical U-Trench MOSFET With Nitrogen-Doped Current Blocking Layer Grown via Ex Situ and In Situ MOCVD Epitaxy |
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Xiaorui Xu; Haoxin Lin; Yicong Deng; Zhengbo Wang; Xueli Han; et al 出版日期:2026-01-01 |
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(2025-6-4)