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 True metrology with reduced resist shrinkage effect for process window optimization and EUV stochastic effects analysis 用于工艺窗口优化和EUV随机效应分析的具有减小的抗蚀剂收缩效应的真实计量
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期刊： 作者：No-Young Chung; Soojung Kim; Hyun-Jae Cho; Hyungrok Jang; Sang Myeong Lee; et al 出版日期：2025-05-09 |
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