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N-type charge-transfer doping to physical-vapor-deposited MoS2 films using atomic-layer-deposited HfO2 films |
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Shunsuke Nozawa; Jaehyo Jang; Naoki Matsunaga; Taiga Fuse; Takuya Hoshii; et al 出版日期:2026 |
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(2025-6-4)