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  High-density plasma etching characteristics of aluminum-doped zinc oxide thin films in Cl2/Ar plasma 掺铝氧化锌薄膜在Cl2/Ar等离子体中的高密度等离子体刻蚀特性
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期刊：Materials Research Express 作者：Liting Zhang; Young-Hee Joo; Doo‐Seung Um; Chang-Il Kim 出版日期：2020-09-25 |
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