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 Reaction mechanism and film properties of the atomic layer deposition of ZrO2 thin films with a heteroleptic CpZr(N(CH3)2)3 precursor 杂晶CpZr(N(CH3)2)3前驱体原子层沉积ZrO2薄膜的反应机理及薄膜性能
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期刊：Applied Surface Science 作者：Ae Rim Choi; Seunggi Seo; Seiyon Kim; Dohee Kim; Seung‐Wook Ryu; et al 出版日期：2023-03-24 |
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