| 标题 |
Atomic layer deposition of molybdenum disulfide films using MoF6 and H2S |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者:Anil U. Mane; Steven Letourneau; David J. Mandia; Jian Liu; Joseph A. Libera; et al 出版日期:2017-12-29 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)