Phosphoric acid wet etching of silicon oxide/silicon nitride stacked nanolayers in limited space

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标题	Phosphoric acid wet etching of silicon oxide/silicon nitride stacked nanolayers in limited space
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2025.110167
DOI	10.1016/j.mssp.2025.110167 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Qiutong Zhao; Yingjie 英杰 Fan 樊; Jingjing Zhang; Lihui Yu; Z. Chen; et al 出版日期：2025-10-22
求助人	个性怡在 2026-11-03 22:16:34 发布自北京，悬赏 10 积分
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