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标题
Halogen and Halomethyl Substitution Effects in Anthracene-Based Extreme Ultraviolet Resist Models: A Theoretical Study of Dissociation Mechanisms and Optoelectronic Properties
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DOI
10.1021/acs.jpca.5c08102 doi
其它 期刊:The Journal of Physical Chemistry A
作者:Vishal Gupta; Rohit Anand; In Kee Park; Florian Brette; Geunsik Lee
出版日期:2026
求助人
皮三问 在 2026-05-14 14:01:35 发布自上海,悬赏 10 积分
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