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 Inhibitor-free area selective atomic layer deposition of SiO2 thin films by in situ surface cleaning using isotropic SiO2 selective removal 相关领域
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期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Min Su Kim; Hyun Gu Kim; So Myeong Shin; Byungchul Cho; Juhwan Park; et al 出版日期：2025-09-26 |
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