Ab initio -based approach for the oxidation mechanisms at SiO2 /4H-SiC interface: Interplay of dry and wet oxidants during interfacial reaction

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标题	Ab initio -based approach for the oxidation mechanisms at SiO2 /4H-SiC interface: Interplay of dry and wet oxidants during interfacial reaction
网址	https://link.aps.org/accepted/10.1103/PhysRevMaterials.5.114...
DOI	10.1103/physrevmaterials.5.114601 doi
其它	期刊：PHYSICAL REVIEW MATERIALS 作者：T. Shimizu; T. Akiyama; T. Ito; H. Kageshima; M. Uematsu; et al 出版日期：2021-11-03
求助人	沉静的含芙在 2026-07-17 00:44:41 发布自福建，悬赏 10 积分
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