Effects of slurry formulations on chemical-mechanical polishing of low dielectric constant polysiloxanes: hydrido-organo siloxane and methyl silsesquioxane

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标题	Effects of slurry formulations on chemical-mechanical polishing of low dielectric constant polysiloxanes: hydrido-organo siloxane and methyl silsesquioxane
网址	https://pubs.aip.org/avs/jvb/article-pdf/18/1/201/11293229/2...
DOI	10.1116/1.591173 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B 作者：Wen‐Chang Chen; Cheng-Tyng Yen 出版日期：2000-02-09
求助人	无语的便当在 2026-07-08 15:50:37 发布自山东，悬赏 10 积分
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