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标题
Improved Surface Passivation of Rear SiNx/AlOx Stacks in p‐Type Boron‐Doped Czochralski Silicon Wafers During Dark Annealing at Elevated Temperatures
高温暗退火过程中p型掺硼直拉硅片背面SiNx/AlOx堆叠的表面钝化改善
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1002/pssa.202200314
DOI
10.1002/pssa.202200314 doi
其它 期刊：physica status solidi (a)
作者：Zechen Hu; Dehang Lin; Tong Zhao; Pengjie Hang; Yuxin Yao; et al
出版日期：2022-09-23
求助人
拒绝贪玩。 在 2025-08-29 20:39:56 发布，悬赏 10 积分
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