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[高分]
Plasma depostion of BN, BCN:H and Me-BCN:H films using N-trimethylborazine (Me = Ti, Nb) 相关领域
材料科学
等离子体
结晶学
化学
物理
核物理学
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期刊:Journal de Physique III 作者:A. Weber; U. Bringmann; C.‐P. Klages; K. Taube; G. Döllein; et al 出版日期:1992-08-01 |
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