| 标题 |
 Design Insights into Thermal Performance of Vertically Stacked JL-NSFET with High-k Gate Dielectric for Sub 5-nm Technology Node 用于亚5纳米技术节点的具有高k栅极介质的垂直堆叠JL-NSFET热性能的设计见解
相关领域
跨导
材料科学
电介质
截止频率
栅极电介质
电容
光电子学
振荡（细胞信号）
晶体管
无线电频率
高-κ电介质
电气工程
电极
物理
电压
量子力学
生物
遗传学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Sresta Valasa; Shubham Tayal; Laxman Raju Thoutam 出版日期：2022-04-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
渡人舟
Kao
Criminology34
奔跑
OK
heekkll
GingerF
wwww
无极微光
paudy
6666
挖掘机
Freya1528
lili
arniu2008
YifanWang
Essence
大气山兰
初景
皖公网安备34019202002308
