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标题
Low-temperature plasma atomic layer etching of molybdenum via sequential oxidation and chlorination
顺序氧化氯化低温等离子体原子层刻蚀钼
相关领域
钼 X射线光电子能谱 蚀刻（微加工） 等离子体 氧化物 氯 材料科学 化学 分析化学（期刊） 图层（电子） 大气温度范围 无机化学 化学工程 冶金 纳米技术 环境化学 气象学 工程类 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1116/6.0001603
DOI
10.1116/6.0001603 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Yebin Lee; Yong‐Jae Kim; Jiwon Son; Heeyeop Chae
出版日期：2022-01-27
求助人
Echo 在 2025-07-28 15:23:17 发布自江苏，悬赏 10 积分
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