Tolerable patterning in nanoimprint lithography by one-pass breakthrough etching of residual layer and spin-on-glass

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标题	Tolerable patterning in nanoimprint lithography by one-pass breakthrough etching of residual layer and spin-on-glass 相关领域抵抗蚀刻（微加工）材料科学纳米压印光刻图层（电子）平版印刷术光电子学残余物干法蚀刻互连纳米光刻纳米技术反应离子刻蚀光刻胶铜互连制作计算机科学病理医学替代医学计算机网络算法
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/adacf4
DOI	10.35848/1347-4065/adacf4 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Kenta Suzuki; Tetsuya Ueda; Hiroshi Hiroshima; Masanaga Fukasawa; Yuji Kasashima; et al 出版日期：2025-01-22
求助人	火火在 2025-11-26 16:32:32 发布自福建，悬赏 10 积分
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