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 Wet etch methods to achieve submicron active area self-aligned vertical Sb-heterostructure backward diodes 湿法刻蚀方法实现亚微米有源区自对准垂直锑异质结构后向二极管
相关领域
材料科学
异质结
光电子学
二极管
蚀刻（微加工）
制作
肖特基二极管
各向同性腐蚀
磷酸
腐蚀坑密度
纳米技术
医学
替代医学
图层（电子）
病理
冶金
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| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Adam Jönsson; Pengcheng Xu; Julius Reitemeier; Paul W. Bohn; Patrick Fay 出版日期：2023-12-13 |
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