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Wet etch methods to achieve submicron active area self-aligned vertical Sb-heterostructure backward diodes

材料科学异质结光电子学二极管蚀刻（微加工）制作肖特基二极管各向同性腐蚀磷酸腐蚀坑密度纳米技术医学替代医学图层（电子）病理冶金

作者

Adam Jönsson,Pengcheng Xu,Julius Reitemeier,Paul W. Bohn,Patrick Fay

出处

期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2023-12-13 卷期号：171: 108036-108036

链接

sciencedirect.comdoi.org

标识

DOI：10.1016/j.mssp.2023.108036

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