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Electrowetting Lens Employing Hemispherical Cavity Formed by Hydrofluoric Acid, Nitric Acid, and Acetic Acid Etching of Silicon 相关领域
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:June Kyoo Lee; Ju Chan Choi; Won Ick Jang; Hak‐Rin Kim; Seong Ho Kong 出版日期:2012-06-01 |
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