| 标题 |
 Advances on the application of ceria nanoparticles in dielectric layer CMP and post-cleaning: structural control, modification strategies, and mechanistic studies 相关领域
材料科学
化学机械平面化
Zeta电位
纳米技术
磨料
吸附
表面粗糙度
纳米颗粒
表面改性
抛光
电介质
色散（光学）
介孔材料
介孔二氧化硅
粒子（生态学）
化学工程
表面光洁度
粒径
烧结
过程（计算）
半导体
图层（电子）
半导体器件制造
复合材料
纳米复合材料
兴奋剂
弹性（物理）
金属
比表面积
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Wenyue Qi; Jiaji Geng; Baimei Tan; Fangyuan Wang; Xinyu Zhao; et al 出版日期：2026-05-05 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
Kao
Samuel
yjh123
arniu2008
Copyright
行走的荷尔蒙
OK
Nexus
sagitar
研友_ZbM2qn
悦耳白山
无极微光
学术文献互助
GG
科研狗
liuzhuohao
蓝天
GingerF
初景
皖公网安备34019202002308
