Gas cluster ion beam processing for improved self aligned contact yield at 7 nm node FinFET: MJ: MOL and junction interfaces

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标题	Gas cluster ion beam processing for improved self aligned contact yield at 7 nm node FinFET: MJ: MOL and junction interfaces
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/8370149/8373135/08373209...
DOI	10.1109/asmc.2018.8373209 doi
其它	期刊：2018 29th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) 作者：Su Chen Fan; Sean Teehan; Kisup Chung; Alex Varghese; Mark Lenhardt; et al 出版日期：2018-06-22
求助人	木风落在 2026-05-16 17:02:40 发布自北京，悬赏 10 积分
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