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Standard wafer with programed defects to evaluate the pattern inspection tools for 300-mm wafer fabrication for 7-nm node and beyond
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https://doi.org/10.1117/1.jmm.18.2.023505
DOI
10.1117/1.jmm.18.2.023505 doi
其它 期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS
作者：S. Iida; T. Nagai; Takayuki Uchiyama
出版日期：2019-06-19
求助人
zhull 在 2025-11-10 19:16:42 发布自北京，悬赏 20 积分
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