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Impact of band gap and gate dielectric engineering on novel Si0.1Ge0.9-GaAs lateral N-type charge plasma based JLTFET 带隙和栅介质工程对新型Si0.1Ge 0.9-GaAs横向N型电荷等离子体基JLTFET的影响
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期刊:Microelectronics Journal 作者:Kaushal Kumar; S. C. Sharma 出版日期:2022-10-14 |
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