| 标题 |
Application of coumarin derivative triplet photosensitizers in photolithography |
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| DOI |
10.1360/ssc-2023-0106
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| 其它 |
期刊:SCIENTIA SINICA Chimica 作者:Yudong Wen; Lu Zhou; Jianzhang Zhao; Shaomin Ji; Yuxi Sun; et al 出版日期:2023-09-01 |
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(2025-6-4)