| 标题 |
Cr migration on 193nm binary photomasks |
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| DOI |
10.1117/12.813934
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| 其它 |
期刊:Proceedings of SPIE 作者:J. Bruley; Geoffrey W. Burr; Robert E. Davis; P. Flaitz; William D. Hinsberg; et al 出版日期:2009-03-13 |
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