| 标题 |
H2O-based atomic layer deposition mechanism of aluminum oxide using trimethylaluminum |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Surface Science 作者:Yingying Wang; Jiayi Guo; Chenqi Bai; Lina Xu; Hong‐Ping Xiao; et al 出版日期:2024-08-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)