Optimization of the Deposition Process Parameters of DC Magnetron Sputtering to Achieve Desired Deposition Rate Using Design of Experiment Method

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标题	Optimization of the Deposition Process Parameters of DC Magnetron Sputtering to Achieve Desired Deposition Rate Using Design of Experiment Method
网址	https://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s11664-023-106...
DOI	10.1007/s11664-023-10628-y doi
其它	期刊：Journal of Electronic Materials 作者：Allamula Ashok; Vir Karan; Peela Lasya; Daljin Jacob; Parasuraman Swaminathan; Satyesh Kumar Yadav 出版日期：2023-08-05
求助人	花痴的手套在 2026-06-15 14:52:49 发布自上海，悬赏 10 积分
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