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标题
Mask CD control (CDC) using AIMS as the CD metrology data source
使用AIMS作为CD计量数据源的掩模CD控制(CDC)
相关领域
薄脆饼 光学接近校正 光掩模 计量学 计算机科学 光学 平版印刷术 材料科学 光电子学 物理 纳米技术 抵抗 图层(电子)
网址
DOI
10.1117/12.793054 doi
其它 期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者:Guy Ben-Zvi; Eitan Zait; Vladimir Dmitriev; Steven M. Labovitz; Erez Graitzer; et al
出版日期:2008-05-02
求助人
啤酒人 在 2025-08-06 16:23:03 发布自安徽,悬赏 20 积分
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