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 Study of model based etch bias retarget for OPC 基于模型的OPC蚀刻偏置重定向研究
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Qingwei Liu; Renqiang Cheng; Liguo Zhang 出版日期：2010-02-19 |
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