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标题
Nanoindentation study of a Cu/Ta/SiO2/Si multilayer system
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DOI
10.1088/1674-4926/33/4/043002 doi
其它 期刊:Journal of Semiconductors
作者:Z. Xin; L. Qian; Wu Zijing; Wu Xiao-jing; Shen Weidian; et al
出版日期:2012-04-01
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