Research on p-GaN/AlGaN high sidewall verticality and low damage etching applied to enhanced GaN HEMTs devices - 科研通

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标题	Research on p-GaN/AlGaN high sidewall verticality and low damage etching applied to enhanced GaN HEMTs devices
网址	http://dx.doi.org/10.1109/icept59018.2023.10492246
DOI	10.1109/icept59018.2023.10492246 doi
其它	期刊：2023 24th International Conference on Electronic Packaging Technology (ICEPT) 作者：Xiaoxiao Gao; Yi Huang; Shile Xiang 出版日期：2023-08-08
求助人	829302yft 在 2026-09-12 17:26:38 发布自上海，悬赏 10 积分
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