The effect of stress on HfO2- based ferroelectric thin films : A review of recent advances

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标题	The effect of stress on HfO2- based ferroelectric thin films : A review of recent advances 相关领域材料科学铁电性压力（语言学）薄膜光电子学纳米技术工程物理电介质物理语言学哲学
网址	https://doi.org/10.1063/5.0146998
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？ AI识别 10.1063/5.0146998 doi
求助人	sx 在 2026-06-17 20:33:12 发布自江苏，悬赏 10 积分
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