The effect of stress on HfO2-based ferroelectric thin films: A review of recent advances

材料科学 铁电性 压力(语言学) 薄膜 光电子学 纳米技术 工程物理 电介质 物理 语言学 哲学
作者
Runhao Han,Peizhen Hong,Shuai Ning,Qiang Xü,Mingkai Bai,Jing Zhou,Kaiyi Li,Fei Liu,Feng Shi,Feng Luo,Zongliang Huo
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:133 (24): 240702-240702 被引量:16
标识
DOI:10.1063/5.0146998
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