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标题
Study on the Effect of Water Spraying Mode on the N Content of Wafer Surface after SC1 Cleaning in Light Doping Process
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/10219185/10219154/102193...
DOI
10.1109/cstic58779.2023.10219384 doi
其它 期刊：China Semiconductor Technology International Conference
作者：Jinlei Wang; Feng Guan; M. Hang; L. Jia; Fang Li; et al
出版日期：2023-06-26
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lynn 在 2026-09-10 15:57:07 发布自美国，悬赏 10 积分
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    欢呼梦安 欢呼梦安 Lv4 上传了文件

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