Mechanisms for undesired nucleation on H-terminated Si and dimethylamino-trimethylsilane passivated SiO2 during TiO2 area-selective atomic layer deposition

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标题	Mechanisms for undesired nucleation on H-terminated Si and dimethylamino-trimethylsilane passivated SiO2 during TiO2 area-selective atomic layer deposition
网址	http://dx.doi.org/10.1063/5.0106132
DOI	10.1063/5.0106132 doi
求助人	ksq 在 2026-04-01 11:32:00 发布自江苏，悬赏 10 积分
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