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 Selective functionalization of partially etched SiNx to enhance SiO2 to SiNx etch selectivity 相关领域
表面改性
蚀刻（微加工）
选择性
材料科学
反应离子刻蚀
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苯甲醛
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化学
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沉积物
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Ryan J. Gasvoda; Xue Wang; Prabhat Kumar; Eric A. Hudson; Sumit Agarwal 出版日期：2021-07-26 |
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