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 Improvement of Polishing Performance of Sio2/Si3n4 by Surfactants in Ceo2 Based Slurry 表面活性剂对Ceo2基浆料中Sio2/Si3n4抛光性能的改善
相关领域
抛光
泥浆
化学机械平面化
材料科学
冶金
复合材料
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期刊： 作者：Xinyu Zhao; Xinyu Han; Fangyuan Wang; Baimei Tan; Yunhui Shi; et al 出版日期：2025-01-01 |
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