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 Selection and evaluation of developer-soluble topcoat for 193nm immersion lithography 193nm浸没光刻显影剂可溶性面漆的选择与评价
相关领域
浸没式光刻
选择（遗传算法）
平版印刷术
沉浸式（数学）
计算机科学
抵抗
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数学
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光电子学
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Yayi Wei; Karen Petrillo; Stefan Brandl; Frank Goodwin; Philip Benson; et al 出版日期：2006-03-10 |
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