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 High temperature annealing effects on the chemical and mechanical properties of inductively-coupled plasma-enhanced chemical vapor deposited a-SiC:H thin films 高温退火对电感耦合等离子体增强化学气相沉积a-SiC：H薄膜化学和力学性能的影响
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期刊：Thin Solid Films 作者：Tobias Frischmuth; Michael Schneider; Daniel Maurer; Thomas Grille; Ulrich Schmid 出版日期：2016-05-05 |
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