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标题
Direct Photolithography Patterning of Quantum Dot‐Polymer
量子点聚合物的直接光刻图案化
相关领域
光刻 光掩模 材料科学 量子点 纳米技术 平版印刷术 聚合物 计算光刻 纳米压印光刻 光电子学 制作 多重图案 抵抗 复合材料 病理 替代医学 医学 图层(电子)
网址
DOI
10.1002/adfm.202310338 doi
其它 期刊:Advanced Functional Materials
作者:Weishu Guo; Jun Chen; Teng Ma; Ziyi Chen; Mulin Li; et al
出版日期:2023-11-23
求助人
王术 在 2025-12-02 20:06:30 发布自福建,悬赏 10 积分
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