| 标题 |
 Multiscale modeling of area-selective atomic layer deposition of SiO2 on Al2O3 and SiO2 surfaces with intermediate etching steps 相关领域
多尺度建模
蚀刻（微加工）
原子层沉积
成核
计算流体力学
沉积（地质）
材料科学
纳米技术
制作
图层（电子）
过程（计算）
分子动力学
化学
熔融沉积模型
建模与仿真
等离子体刻蚀
过程建模
薄膜
曲面（拓扑）
化学工程
流量（数学）
动力学蒙特卡罗方法
选择性
动力学
纳米结构
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Chemical Engineering Science 作者：Feiyang Ou; Abdulrahman Alghamdi; Chun-Pei Lin; Gerassimos Orkoulas; Panagiotis D. Christofides 出版日期：2026-05-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
Nole
Criminology34
张欢馨
ming2026
渡人舟
loii
斯文的白玉
LJJ019
MchemG
Kao
东方元语
GingerF
学术文献互助
emiya
heekkll
赵赶超
22336
端庄的寒梅
Colden
皖公网安备34019202002308
