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Multiscale modeling of area-selective atomic layer deposition of SiO2 on Al2O3 and SiO2 surfaces with intermediate etching steps

多尺度建模蚀刻（微加工）原子层沉积成核计算流体力学沉积（地质）材料科学纳米技术制作图层（电子）过程（计算）分子动力学化学熔融沉积模型建模与仿真等离子体刻蚀过程建模薄膜曲面（拓扑）化学工程流量（数学）动力学蒙特卡罗方法选择性动力学纳米结构

作者

Feiyang Ou,Abdulrahman Alghamdi,Chun-Pei Lin,Gerassimos Orkoulas,Panagiotis D. Christofides

出处

期刊：Chemical Engineering Science [Elsevier BV]
日期：2026-01-28 卷期号：325: 123422-123422 被引量：2

标识

DOI：10.1016/j.ces.2026.123422

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