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标题
Extended model for chemically amplified resist with multiple photoacid generators
具有多个光酸发生器的化学放大抗蚀剂的扩展模型
相关领域
抵抗 材料科学 纳米技术 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1116/6.0004381
DOI
10.1116/6.0004381 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science and technology
作者：Di Yao; Lisong Dong; Yunyun Hao; Yayi Wei; Ming Fang
出版日期：2025-03-01
求助人
LIU 在 2025-09-09 09:47:37 发布自上海，悬赏 10 积分
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